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公司12年來共研制開發(fā)出40余項半導體化合物材料： 碲系化合物：碲化銅(CuTe)，碲化銦( InTe)，碲化鋅(ZnTe)，P/N三碲化二鉍(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)... 硫系化合物：三硫化二鎵(Ga2S3)，二硫化鍺(GeS2)，硫化鋅(ZnS)，硫化錫(SnS)，三硫化二銦(In2S3)，硫化亞銅（Cu2S）...無氧硒及硒系化合物:三硒化二鎵(Ga2Se3)，硒化亞銅(Cu2Se)，三硒化二銦(In2Se3)，硒化鋅(ZnSe)，硒化鉍(Bi2Se3)... 氯系化合物：無水三氯化銦(InCl3)，無水三氯化鎵(GaCl3)，無水氯化亞銦(InCl)... 氧系化合物： 4N-5N三氧化二鎵(Ga2O3)，4N-5N氧化鋅(ZnO)，5N-6N 三氧化二銦(In2O3)，5N 三氧化二鉍(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二銻（Sb2O3）...銅銦鎵硒（CIGS）系列材料.靶材：氧化鋅靶，氧化鋅鋁靶，銅銦鎵硒靶，三硒化二銦靶，硒化亞銅靶材... 公司現(xiàn)有工藝及設備： 1，電解裝置4套：回收電解銅，電解鉛鋅礦的陽極泥；高純銦的電解，特別是除去里面的雜質錫。 2，真空蒸餾裝置12套：根據雜質不同的飽和蒸氣壓，采用真空蒸餾的方法將其去除。 3，區(qū)域熔煉爐10套。 4，單間提拉爐12套。 5，CVD 化學氣相沉積設備3套。 6，PVD裝置2套。 7，真空熔煉爐15套。 8，THM 移動式加熱設備。 9，氯... [詳細介紹]